Gate 廣場「創作者認證激勵計劃」開啓:入駐廣場,瓜分每月 $10,000 創作獎勵! 
無論你是廣場內容達人,還是來自其他平台的優質創作者,只要積極創作,就有機會贏取豪華代幣獎池、Gate 精美週邊、流量曝光等超 $10,000+ 豐厚獎勵! 
參與資格: 
滿足以下任一條件即可報名👇 
1️⃣ 其他平台已認證創作者 
2️⃣ 單一平台粉絲 ≥ 1000(不可多平台疊加) 
3️⃣ Gate 廣場內符合粉絲與互動條件的認證創作者 
立即填寫表單報名 👉 https://www.gate.com/questionnaire/7159 
✍️ 豐厚創作獎勵等你拿: 
🎁 獎勵一:新入駐創作者專屬 $5,000 獎池 
成功入駐即可獲認證徽章。 
首月發首帖(≥ 50 字或圖文帖)即可得 $50 倉位體驗券(限前100名)。 
🎁 獎勵二:專屬創作者月度獎池 $1,500 USDT 
每月發 ≥ 30 篇原創優質內容,根據發帖量、活躍天數、互動量、內容質量綜合評分瓜分獎勵。 
🎁 獎勵三:連續活躍創作福利 
連續 3 個月活躍(每月 ≥ 30 篇內容)可獲 Gate 精美週邊禮包! 
🎁 獎勵四:專屬推廣名額 
認證創作者每月可優先獲得 1 次官方項目合作推廣機會。 
🎁 獎勵五:Gate 廣場四千萬級流量曝光 
【推薦關注】資源位、“優質認證創作者榜”展示、每週精選內容推薦及額外精選帖激勵,多重曝光助你輕
中微公司:發布六款半導體設備新產品
金十數據9月4日訊,中微公司公告稱,近日推出六款半導體設備新產品,包括兩款刻蝕設備和四款薄膜沉積設備。刻蝕設備方面,新一代極高深寬比等離子體刻蝕設備PrimoUD-RIE 和專注於金屬刻蝕的PrimoMenova 12寸ICP單腔刻蝕設備,旨在滿足客戶在極高深寬比刻蝕和金屬刻蝕領域的需求。薄膜沉積設備方面,包括三款原子層沉積產品和一款外延產品,如PreformaUniflash 金屬柵系列和PRIMIOEpita RP雙腔減壓外延設備。這些新產品預計將對公司未來半導體設備市場拓展和業績成長性產生積極影響。新產品尚處於市場導入初期,存在市場推廣和客戶驗證等風險,可能對公司收入和盈利帶來不確定性。